供应半导体溅射膜片清洗设备
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详细信息

⑴超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。

⑵工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下 料

(3)结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。

(4)槽体材料为德国进口聚丙烯（磁白色PP板），焊口采用SS外包5mm厚德国磁白色PP板，外型美观实用；加热槽装有温控表（pompon）和传感器。

(5)每个清洗槽互不影响，超声、冲洗清洗槽的上给水（冲洗清洗槽配有热水）、下排水为手动方式。

(6)配有可调节式的排风装置。

(7)配有美国进口氮气枪。 

(8)电控部分采用密封保护方式配有紧急停机及报警装置。