北京华林伟业电镀器材有限公司

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供应半导体显影清洗机
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详细信息


 

  1.概述:本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行显影和定影,该产品技术先进、一致性强,适用于规模生产。
   2.整台设备材料均为进口。
   3.本设备为双排槽构成,每排7槽,各设一套机械手,两排可独立同时完成相应的工序。
   4.本设备除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。
   5.每槽装片能力:50/批(2花篮,25/花篮)。
   6.工作区洁净度:100级。
   7.槽间工艺转换时间:Tm ax≤3.5S

半导体显影清洗机

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